蒙城氢氧化铟粉回收之粗铟电解：
含In90%左右的粗铟在H2SO4AK HCl介质中电解得99.99%铟。典型的In2(SO4)3电解液含In 40~100g/L，NaCl 80~100g/L，粗铟为阳极，纯铟为阴极，在电流密度为300~500A/m2及20~40℃下电解得99.99%铟；典型的InCl3电解液含铟20~80g/L，NaCl 100g/L，（如用NH4Cl只需50g/L），添加剂如前，pH=2.0~2.5，在电流密度为60~100A/m2，槽压为0.25~0.4V及室 温下电解得99.99%铟。
得到的电解铟如含杂质铊多，可配以NH4Cl与ZnCl2（分别为铟重的1.5%与4.5%）于280℃下熔炼使铊入浮渣而综合回收。如含隔多可用碘化法：200℃下加I2、KCl及甘油使镉以K2CdI4溶入甘油；或在90℃下真空挥发镉而除去并综合利用。
蒙城氢氧化铟粉回收之氧化铟锡(ITO)薄膜的介绍
氧化铟锡(ITO)薄膜因具有可见光穿透率高且电阻系数低，目前已广泛应用于电子和光电工业上。本实验以反应磁磁溅镀法低温溅镀氧化铟锡薄膜于压克力基材上，藉由氧流量和厚度的研究，尝试得到一附着性佳、硬度高且在不影响其导电和光学性质下之最佳参数。
实验发现薄膜之附着性质主要受到其微结构和薄膜内残留应力所支配。由刮痕试验中，发现镀层破坏型态为一同形的半圆形裂痕轨迹（conformal cracking），为一张应力破坏模式产生。实验中藉由氧气流量增加，氧空位减少，避免晶格失序（disorder）或扭曲的现象，减少薄膜内残留之张应力以及在高氧流量有较低之溅镀速率可增加粒子轰击（peening）效果，故有较佳之附着性质且随着膜厚的增加，其附着性质亦随之减少。
蒙城氢氧化铟粉回收之氧化铟锡的要点
1、随氧气流量的增加，平行于薄膜表面之相对压应力随之增加，可能是氧空位的减少和粒子轰击效果。
2、镀层的破坏型态为一完全附着于基材之同形状的半圆形裂痕轨迹，为一张应力破坏。
3、随着氧气流量的增加镀层附着性增加，系因内应力的影响。而随着厚度的增加，受到之剪力越大，造成镀层附着性降低。
蒙城氢氧化铟粉回收之铟的产业链
铟产业链包括原生粗铟、精铟、高纯铟、ITO靶材、ITO导电膜、ITO导电玻璃、显示面板、触摸屏、铜铟镓硒导电膜等。
从替代性角度分析，由于全球铟回收产业较为成熟(经计算，回收铟占全球铟产量的50%以上)，因而原生粗铟和精铟的可替代性好，而高纯铟、ITO靶材、ITO导电玻璃、ITO导电膜等深加工、元部件产品技术成熟，在平面显示行业市场占有率高，短期内不会被其他产品替代。
从垄断性和盈利性分析，高端ITO靶材和高端ITO导电玻璃、ITO导电膜被日本、韩国几个公司垄断，利润率高。
蒙城氢氧化铟粉回收之氧化铟锡的特点
氧化铟锡(ITO)薄膜因具有可见光穿透率高且电阻系数低，目前已广泛应用于电子和光电工业上。本实验以反应磁磁溅镀法低温溅镀氧化铟锡薄膜于压克力基材上，藉由氧流量和厚度的研究，尝试得到一附着性佳、硬度高且在不影响其导电和光学性质下之最佳参数。
实验发现薄膜之附着性质主要受到其微结构和薄膜内残留应力所支配。由刮痕试验中，发现镀层破坏型态为一同形的半圆形裂痕轨迹（conformal cracking），为一张应力破坏模式产生。实验中藉由氧气流量增加，氧空位减少，避免晶格失序（disorder）或扭曲的现象，减少薄膜内残留之张应力以及在高氧流量有较低之溅镀速率可增加粒子轰击（peening）效果，故有较佳之附着性质且随着膜厚的增加，其附着性质亦随之减少。
蒙城氢氧化铟粉回收之铟出口的政策：
2007年，中国开始对铟出口实行许可证和配额管理，并对“未锻轧铟和铟废碎料”和“铟粉末”分别执行15%和10%的关税税率。新的贸易政策调节出口作用明显。但是，由于正规出口成本提高，走私出口大幅上升。鉴于这种情况，原中国有色金属工业协会铟业分会在调研的基础上，广泛征求意见，配合协会向国家提出调整铟出口关税的建议。
自2009年7月1日起，国家对“未锻轧铟和铟废碎料”出口关税暂定由15%下调为5%，将“铟粉末”的出口关税暂定由10%下调为5%。在这之后，我国铟出口一定程度恢复，但随着资源全球化配置的深入，5%关税副作用越发明显，我国铟行业发展逐渐处于不利地位，全球供应地位下降，企业提出降低出口关税的建议。为此，中国有色金属工业协会铟铋锗分会也通过各种渠道提交降低出口关税的建议。2012年12月11日，国务院关税税则委员会下发了《关于2014年关税实施方案的通知》。通知提到，《2014年关税实施方案》（以下称"方案"）已经国务院关税税则委员会第二次全体会议审议通过，并报国务院批准，自2014年1月1日起实施。《方案》对铟出口关税进行了调整：未锻轧铟、铟废碎料、铟粉末（81129230）出口暂定税率由5%调整为2%。这是自2007年开始对铟出口征收关税以来的第二次下调。从此次调整的时机看，由于我国处于出口低谷，短期对铟市场影响有限，市场可以从容过渡。从长期看，关税下调有助于提升中国铟产品的竞争力和鼓舞国内生产企业的积极性。
蒙城氢氧化铟粉回收之从炼锌副产品中回收铟：
日本同和矿业公司以炼锌中产生的净液残渣作为原料，先分离和浸出，脱铜、脱铝，除去原料中与镓铟性质相似的重金属，然后在富集镓铟的溶液中加入盐酸，混合搅拌，调整酸度之后，再用醚萃取铟，使它和镓及其它金属分离。最后用水反萃出铟，再经置换，熔融和电解。 在每次电解中需调整电流密度和电解液的酸度，以除去微量的镉、锡和铝等，生产出4 N 以上的金属铟。此外，铟的选择性分离法是把铅、锌冶炼过程中产生的含有微量的铟烟尘、阳极泥等各种残渣以及电解排出液作为原料，采用含萃取剂膦酸二(2-乙基己基)酯的有机溶剂，于pH小于1.0的条件下，对含铟及其它金属的硫酸溶液萃取，然后用盐酸在30-700C 进行反萃，从而选择性分离铟。其萃取铟的效率可高达98%以上。
蒙城氢氧化铟粉回收之氧化铟锡的使用
ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。
ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。
ITO薄膜应力规可以在高于1400°C及严酷的环境中使用，例如气体涡轮、喷气引擎、还有火箭引擎。
