上海虹口铟条回收之镓铟锡合金的应用领域

  1）用在医疗上，主要用来做特定形状的防辐射专用挡块。 

  2）可以方便用作铸造制模，生产特殊产品用模具、铸造特殊用产品。 

  3）用于电子电气自动控制，作热敏元件、保险材料、火灾报警装置等。 

  4）在折弯金属管时，作为填充物。 

  5）做金相试样时，作为嵌镶剂。

上海虹口铟条回收之高纯铟的制备萃取法    

  用乙醚进行二次萃取后， 再用氨水中和 I n的 H C I溶液， 得 I n ( O H) ，沉淀， 将沉淀用氢还原， 或配制成电解液电解可得纯度大于 9 9 . 9 9 9 5 %的高纯铟。或用烷基磷酸萃取铟， 用 H C I 从有机相中反萃铟， 最后用铝或锌置换， 沉淀成为海绵铟， 通过进一步的精炼可得到9 9 . 9 9 9 %的铟n 。用螯合剂萃取水溶液中的铟， 萃取率可达 1 0 0 %， 萃取后铟可被电解析出。

  萃取法同离子交换法一样， 均要求将铟转入溶液，纯化溶液后析出金属铟。这2种纯化铟的方法既有好的一面， 也有不好的一面。当溶解原始金属时， 得到了初步纯化。

  纯化的方法多种多样， 可选择对每一类杂质最有效的纯化方法。由纯化的溶液析出高纯金属铟， 方法的选择性亦很大。但是由于溶解原始金属， 对原始金属的稀释很大， 并需补充试剂和抗腐蚀的容器材料。同时还会造成废物的大量累积。

上海虹口铟条回收之粗铟β分离系数判定

   因为在A-B的二元合金中存在相互作用，使得组元的实际蒸气压并不等于饱和蒸气压，而组元的实际蒸汽压还与其在合金中的摩尔分数浓度N和活度α有关。一般情况下，定义β为二元合金的分离系数，通过判定β的大小就可以判定二元合金能否分离，具体如下：当βA<1时，在真空蒸馏过程中组元A较多富集于液相，组元B则富集于气相，组元A与组元B可以实现分离，βA的值越小，分离效果越好；当βA=1时，在真空蒸馏过程中，组元A与组元B不能实现分离；当βA>1时，在真空蒸馏过程中组元A较多富集于气相，组元B则富集于液相，组元A与组元B可以实现分离，βA的值越大，分离效果越好。  

  杂质元素Cd、Zn、Ti、Pb的分离系数大于1 ，在蒸馏过程中先于In 挥发出来，进入气相，其中In-Cd、In-Zn的分离系数最大，采用真空蒸馏方法可以有效使其分离，在而杂质元素Sn、Cu、Fe、Ni的分离系数小于1，在蒸馏过程中基本不会挥发，残留在液相中。

上海虹口铟条回收之铟价的走势及与HJT产业链的关系  

  铟价与HJT产业链的关联从2020年8月开始。2020年8月22日，山煤国际公告布局HJT产业链，一期3GW。铟价从2020年8月21日开始出现暴涨，一路从960元/kg暴涨至9月23日的1460元/kg。虽然，山煤国际最终并未实质性的推进HJT项目，但铟价从此再也没有回到过3位数的水平。   

   本轮铟价的暴涨从2021年7月26日开始，第一波上涨从1160元/kg上涨至8月6日的1350元/kg。这一轮的上涨主要原因与光伏某182组件龙头企业大规模招募HJT团队并计划启动1GW项目（远期规划50GW）相关，上述消息在股票市场上的催化是从8月4日开始，而在商品市场上的最大涨幅也是在8月4日到8月6日这三天。   

  本轮铟价上涨的第二波则是从8月23日开始，3天内铟价从1310元/kg上涨至1620元/kg并创3年新高。这一轮上涨的主要原因是SOLARZOOM光储亿家与东吴机械所举办的HJT异质结商业化高峰论坛，这一次HJT产业链的高峰论坛是HJT低成本商业化量产后的首次行业峰会。在会上，SOLARZOOM光储亿家及迈为股份先后讨论了HJT产业链与铟之间的关系。在铟价的这一轮上涨中，股票市场的反应是从8月19日开始的，到8月25日的短短5个交易日内HJT指数上涨了27%。铟价上涨的启动虽然晚了2个交易日，但金属价格的涨幅也高达24%。

上海虹口铟条回收之对比氧化铟锡(ITO)导电薄膜与银纳米线(SNW)    

  目前光电显示触摸屏行业中透明导体主要使用氧化铟锡(ITO)；铟被归为稀土金属，主要储量位于中国。ITO对各种电子设备的普及作出了很大贡献，特别是电子显示器和太阳能电池。要制造透明导体，需要在真空腔中使用汽相沉积工艺将ITO溅镀到目标基板上，然后对带涂层的基板（通常是玻璃）进行蚀刻和图案设计处理，以形成用于触摸屏中的透明导体。 

  ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。 

  在溅镀ITO层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的ITO层会有不同的特性。一些厂家的玻璃ITO层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃ITO层会出现高蚀间隔带，ITO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃ITO层则会出现微晶沟缝。 

  ITO膜层的主要成份是氧化铟锡。在厚度只有几千埃（一埃等于0.1纳米）的情况下，氧化铟透过率高达90%以上，氧化锡导电能力强，液晶显示器所用的ITO玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃。由于ITO具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应而变质，俗称“霉变”，因此在存放时要防潮。 

  ITO层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。ITO层由很多细小的晶粒组成，晶粒在加温过程中会裂变变小，从而增加更多晶界，电子突破晶界时会损耗一定的能量，所以ITO导电玻璃的ITO层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大。 

  ITO导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于STN液晶显示器和透明线路板。

上海虹口铟条回收之废铟采用先进的生产工艺

  据查新国内外文献，铟及其化合物对人健康的影响或健康损害的报道大部分发表在2002年至2012年期间，也就是在液晶显示面板制造业早期。作为新型产业，建设初期的生产工艺密闭化、自动化程度不高，工人接触铟的机会比现在多，职业危害程度相对较高。随着科技不断进步，产品升级换代，生产工艺日新月异。

  因此，应优先采用既能满足产品要求又有利于保护劳动者健康的新技术、新工艺、新材料，从源头上减少或消除铟及其化合物职业危害。

上海虹口铟条回收之低电压溅射制备ITO薄膜

  由于ITO薄膜本身含有氧元素，磁控溅射制备ITO薄膜的过程中，会产生大量的氧负离子,氧负离子在电场的作用下以一定的粒子能量会轰击到所沉积的ITO薄膜表面，使ITO薄膜的结晶结构和晶体状态造成结构缺陷。溅射的电压越大，氧负离子轰击膜层表面的能量也越大，那么造成这种结构缺陷的几率就越大，产生晶体结构缺陷也越严重，从而导致了ITO薄膜的电阻率上升，图3是磁控溅射的电压与ITO薄膜电阻率的关系曲线。一般情况下，磁控溅射沉积ITO薄膜时的溅射电压在-400V左右，如果使用一定的工艺方法将溅射电压降到-200V以下，那么所沉积的ITO薄膜电阻率将降低50%以上（如图3所示），这样不仅提高了ITO薄膜的产品质量，同时也降低了产品的生产成本。根据豪威公司的实际工艺研究和应用的情况，下面介绍两种在直流磁控溅射制备ITO薄膜时，降低薄膜溅射电压的有效途径。  

  1、磁场强度对溅射电压的影响 　　磁控溅射制作ITO薄膜时，磁场对溅射电压影响的实验曲线。当磁场强度为300G时，溅射电压约为-350v；但当磁场强度升高到1000G时，溅射电压下降至-250v左右（如图4）。一般情况下，磁场强度越高、溅射电压越低，但磁场强度为1000G以上时，磁场强度对溅射电压的影响就不明显了。 　　因此为了降低ITO薄膜的溅射电压，可以通过合理的增强溅射阴极的磁场强度来实现。 　　 

  2、RF+DC电源使用对溅射电压的影响 　　为了有效的降低磁控溅射的电压，以达到降低ITO薄膜电阻率的目的，豪威公司还进行了以下的工艺  实验。即采用了一套特殊的溅射阴极结构和溅射直流电源，同时将一套3KW的射频电源合理的匹配叠装在一套6KW的直流电源上，在不同的直流溅射功率和射频功率下进行降低ITO薄膜溅射电压的工艺研究。当磁场强度为1000G，直流电源的功率为1200W时，通过改变射频电源的功率，经大量的工艺实验得出了如图5的实验曲线。当射频功率为600W时，ITO靶的溅射电压可以降到-110V。

  因此，RF+DC新型电源的应用和特殊溅射阴极结构的设计也能有效的降低ITO薄膜的溅射电压，从而达到降低薄膜电阻率的目的。

上海虹口铟条回收之HJT产业链的发展对铟有怎样的影响

   ITO靶材是HJT电池TCO镀膜工艺较优的选择，也是目前HJT产业界的首选。ITO靶材的成分中，有90-97%的比例为氧化铟，故而正在兴起的HJT产业链构成铟的增量需求。    

  根据SOLARZOOM新能源智库的测算，每生产1GW的HJT电池所消耗的铟金属约为4.0吨左右。而在8月20日HJT峰会迈为股份的PPT中，每1GW的HJT电池所消耗的铟金属约为2.89吨左右。之所以SOLARZOOM新能源智库和迈为股份的测算存在差异，主要原因是对于铟金属回收率的假定并不同、氧化铟占ITO的比重不同。我们假设残靶的利用率95%、挡板载板的回收率75%，并假设9010和973产品均有所用到。   

  目前，由于HJT产业链尚未大规模产业化，故而尚无GW级或10GW级靶材回收率的数据出来。因而，可以暂时以上述参数作为一个估计值。

上海虹口铟条回收之铟的提纯主要方法  

  通常将5N铟称为高纯铟，6N-9N铟称为超高纯铟，他们的形态可以是丝、箔、粉、条、棒等。我国和其他一些国家高纯铟与超高纯铟的一些牌号见表1。  

  国内精铟的生产普遍采用预先钝化-电解精炼联合法，此方法可以得到纯度为4N的精铟。但方法存在以下缺点:

  (1)铟的化学损失较大，在钝化过程生产一些铟的化合物，损失在3%-5%；

  (2)生产周期长，二次精炼一般需要14天，不利于企业生产；

  (3)铟的电解影响因素较多，如电解过程温度控制问题，一般不超过40度，也不能低于20度；

  (4)残极率较高。    

  针对预先钝化-点解精炼联合法存在的一些不足，研究人员采用了升华法、真空蒸馏法、离子交换法、萃取法、定向凝固法、区域熔炼法等提纯法对粗铟进行提纯。

  以上几种方法各有优缺点，从经济性和环保性角度出发，科研人员采用了新的联合法制备高纯铟，即结合真空蒸馏和区域熔炼的优点，以粗铟为原料，采用真空蒸馏对粗铟进行提纯，然后采用区域熔炼方法对金属铟进行二次提纯，运用两种物理提纯方法，在不改变金属铟的形态下，实现短流程、低成本、高效率的制备高纯铟。