上海铟锭回收之金属铟提纯的蒸发过程
说到影响金属铟提纯效果的主要因素，必须提到金属的蒸发过程。因为金属蒸发过程是影响真空蒸馏最关键的要点。金属的蒸发是指金属受热后，生成金属气体而离开液体或固体的过程，一般情况，物质的蒸发过程一般分为四个步骤：
（1）传热：有热源向蒸发源供热，并向蒸发表面传递气化所需的蒸发潜热以维持溶体本身的温度。
（2）蒸发：金属表面部分分析挣脱蒸发进入气体空间。
（3）迁移：金属蒸汽流在气相中扩散迁移。
（4）凝结：到达冷凝面的金属蒸汽分子发生凝结，如果凝结器的温度高于金属的熔点，则凝结为液体，反之，凝结为固体。
上海铟锭回收之氧化铟催化二氧化碳加氢制甲醇反应体系的发展
我们重点从活性位点结构和反应机理的角度对催化剂性能改进策略进行了系统地归纳讨论。目前氧化铟催化二氧化碳加氢反应中仍存在一些重要的问题亟待解决。
1 在原位条件下确定In2O3表面活性位点的准确结构及其演变过程。氧空位是存在于大量金属氧化物表面的模糊性定义，其结构对反应物吸附活化形式和后续加氢路径均有重要影响。目前对氧空位的理解主要停留在以往的DFT计算模型中，其在反应过程中的准确结构需要进一步结合动力学实验和原位谱学表征进行分析，同时将活性位结构演变与催化过程进行关联，构建真实催化位点结构与性能之间的构效关系。
2 对DFT计算、动力学实验和原位表征进行关联。随着In2O3催化研究的不断发展，目前对该体系的理解已更为深入。原位表征发现在催化CO2加氢反应中In2O3的表面结构处于动态变化中。结合动力学实验与原位表征对DFT计算反应机理进行进一步验证，将是深入理解In2O3催化体系的有效方法之一。
3 提高In2O3在催化过程中的结构稳定性。目前实验表明，在反应过程中In2O3颗粒在还原性气氛中极易发生过度还原，即便经历再氧化过程也难以恢复原有的状态。探究In2O3颗粒的烧结机理，并通过催化剂结构优化方法提高In2O3催化结构稳定性是保证其高效催化CO2加氢制甲醇的重要研究内容。
4 抑制产物中CO和H2O的不利影响。副产物CO和H2O的存在易造成活性位点的泯灭与烧结。通过催化剂表面修饰和反应器设计及时移除副产物，抑制其不利影响也是进一步提升催化性能需要解决的问题。
上海铟锭回收从矿渣中回收金属铟：
从锑、锌矿渣中回收金属铟一般采用酸化浸出-萃取法。在其他矿渣中如铁矾渣、铜渣等也含有稀散金属铟。冰铜冶炼转炉吹炼得到的铜渣中铟含量达0.6%～0.95%，具有较大的回收价值。从铁矾渣中富集、回收铟可采用还原挥发处理和萃取提铟新工艺，将铁矾渣在高温下用炭还原，并加入某助剂使铟从渣中挥发出来，形成富铟物料，再进行浸出-萃取-电积，可得到纯度为99.99%的高纯铟，铟回收率大于80% ，同时解决了铁矾渣的污染问题。
上海铟锭回收从合金中回收金属铟：
以铅、锡等为主体的多元合金及金属化合物，含有铟、锗等有价金属，可采用碱熔、酸浸的方法回收铟、锗等有价金属。如电炉底铅是以铅、锡等为主体的多元合金及金属化合物，往电炉底铅中加入NaOH，进行碱熔和碱煮，将细浸出渣酸浸，两段酸浸的铟总浸出率达99%，铟直收率达84.3%。
我国铟的提取工艺在上世纪90年代初获得突破，在有色金属工业快速发展的大背景下，铟的提取工艺普及非常快，特别是铟价高涨之后，铟的综合回收受到企业的普遍重视，国内科研单位和生产企业针对各种含铟物料的提铟工艺又取得长足进展，因此我国铟产量增长迅速。主要生产厂家工艺特点在于针对不同的含铟原料采取不同的初步富集方法和溶解技术，再根据介质情况选择适合的萃取剂。如华锡集团和柳州铟泰科技有限责任公司提铟原料为含铟量大约0.2%的炼锌铁钒渣;葫芦岛锌厂、韶关华力公司、韶关冶炼厂则是从含铟2%～3%的硬锌块中提铟;株洲冶炼厂用置换渣(铟2%～3%)作为提铟原料;柳州锌品公司从生产立德粉的浸出渣(含铟0.2%)中提炼。
上海铟锭回收之铟的用途是什么
铟是一种银灰色，质地极软的易熔金属。熔点156.61°℃。沸点2060°℃C。相对密度d7.30。液态铟能浸润玻璃，并且会粘附在接触过的表面上留下黑色的痕迹。
铟是一种多用途的金属，具有熔点低、沸点高、传导性好，氧化物能形成透明的导电膜等特性，其应用范围正在不断扩大，特别是近年来，发现铟的用途越来越广泛，尤其是在半导体、导体、低熔点合金、铟锡氧化物、硒铟铜薄膜太阳能电池、光纤通讯、原子能、电视、防腐以及其他工业方面的应用越来越引起人们的关注和重视。
除了以上用途外，利用铟合金熔点低的特点还可制成特殊合金，用于消防系统的闭路保护装置及自动控制系统的热控装置。由于铟具有较强的抗蚀性以及对光的反射能力，可以制成军舰或客轮上的反射镜，既可保持光亮长久不变，又能耐海水的腐蚀。另外，铟作为耐磨轴承、牙科合金、钢铁和有色金属的防腐装饰件、塑料金属化以及饰纪念物的用途仍在继续增长。大约70%的铟是用于制备IT（铟锡氧化物)，它可制成透明电极，用于计算机和其他显示屏上，尤其是LCD液晶显示器上，这是ITO的最大（终端）用户。
平面显示器是人类与电子世界“交流”的“界面”，它大大促进了可移动电子装置的发展，例如手机、掌上型电脑等。用于平板显示中的IT膜对可见光透明、吸收紫外线、反射红外光具有很好的耐蚀性以及环境和热稳定性。
铟的第二大应用领域是焊料，例如焊膏和低熔点(易熔)合金，这些材料又有多方面的应用。铟还用于制作半导体材料，这种材料所制器件促进了高速数字网络的发展，从而能够处理日益增大的声音、影像和数字传输容量。
上海铟锭回收之铟与异质结的新用途
异质结电池的制备分为4个步骤，清洗制绒、非晶硅沉积、TCO 沉积和丝网印刷。
在 TCO 沉积这一环节中，目前主要采用RPD（反应等离子体沉积）和 PVD（物理化学气相沉积）两种方法，其中就需要用到氧化铟掺钨（IWO）或氧化铟锡（ITO）作为溅射靶材。氧化铟锡中氧化铟和氧化锡的比例通常为 9:1。
铟的全球需求量约1700吨/年。 HJT产业的爆发会导致铟需求的大幅增长，并有可能由此导致铟价的波动。
上海铟锭回收之粗铟β分离系数判定
因为在A-B的二元合金中存在相互作用，使得组元的实际蒸气压并不等于饱和蒸气压，而组元的实际蒸汽压还与其在合金中的摩尔分数浓度N和活度α有关。一般情况下，定义β为二元合金的分离系数，通过判定β的大小就可以判定二元合金能否分离，具体如下：当βA<1时，在真空蒸馏过程中组元A较多富集于液相，组元B则富集于气相，组元A与组元B可以实现分离，βA的值越小，分离效果越好；当βA=1时，在真空蒸馏过程中，组元A与组元B不能实现分离；当βA>1时，在真空蒸馏过程中组元A较多富集于气相，组元B则富集于液相，组元A与组元B可以实现分离，βA的值越大，分离效果越好。
杂质元素Cd、Zn、Ti、Pb的分离系数大于1 ，在蒸馏过程中先于In 挥发出来，进入气相，其中In-Cd、In-Zn的分离系数最大，采用真空蒸馏方法可以有效使其分离，在而杂质元素Sn、Cu、Fe、Ni的分离系数小于1，在蒸馏过程中基本不会挥发，残留在液相中。
上海铟锭回收之对比氧化铟锡(ITO)导电薄膜与银纳米线(SNW)
目前光电显示触摸屏行业中透明导体主要使用氧化铟锡(ITO)；铟被归为稀土金属，主要储量位于中国。ITO对各种电子设备的普及作出了很大贡献，特别是电子显示器和太阳能电池。要制造透明导体，需要在真空腔中使用汽相沉积工艺将ITO溅镀到目标基板上，然后对带涂层的基板（通常是玻璃）进行蚀刻和图案设计处理，以形成用于触摸屏中的透明导体。
ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。
在溅镀ITO层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的ITO层会有不同的特性。一些厂家的玻璃ITO层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃ITO层会出现高蚀间隔带，ITO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃ITO层则会出现微晶沟缝。
ITO膜层的主要成份是氧化铟锡。在厚度只有几千埃（一埃等于0.1纳米）的情况下，氧化铟透过率高达90%以上，氧化锡导电能力强，液晶显示器所用的ITO玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃。由于ITO具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应而变质，俗称“霉变”，因此在存放时要防潮。
ITO层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。ITO层由很多细小的晶粒组成，晶粒在加温过程中会裂变变小，从而增加更多晶界，电子突破晶界时会损耗一定的能量，所以ITO导电玻璃的ITO层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大。
ITO导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于STN液晶显示器和透明线路板。
