上海虹口铟粉回收之高纯铟的制备区域熔炼法
由于铟具有较低的蒸气压， 采用区域熔炼的方法 ] ， 可使其它一些不能和铟起作用的杂质挥发， 如分离 B 、 A u 、 鲰、 N i 等。尤其适合于铟汞齐精炼后的处理。将汞齐电解后的铟置于涂炭的石英舟中， 在温度6 0 0～ 7 0 0 o C， 真空度 1 . 3 3×1 0 ～～1 . 3 3×1 0 I 3 P a下，处理 3—4 h ， 汞含量可降低至 0 . 0 8 g 。但 s 、 S e 、 T e等对铟具有更高的亲和力， 不能用区域熔炼法分离。
区域熔炼法操作方便， 效率较好， 适于制备高纯铟。但为了得到短的熔区， 在铟的低熔点下， 必须付出较大的冷却费用。
上海虹口铟粉回收之镓铟锡合金的应用领域
1）用在医疗上，主要用来做特定形状的防辐射专用挡块。
2）可以方便用作铸造制模，生产特殊产品用模具、铸造特殊用产品。
3）用于电子电气自动控制，作热敏元件、保险材料、火灾报警装置等。
4）在折弯金属管时，作为填充物。
5）做金相试样时，作为嵌镶剂。
上海虹口铟粉回收之铟丝的规格
按照客户对纯度、直径、长度的要求定制生产各种规格铟丝、铟珠、铟粒、铟棒等（可以客户提供尺寸）。
铟丝规格如下：
铟丝：In 99.995% 直径1mm （常用规格）
铟丝：In 99.995% 直径1.5mm （常用规格）
铟丝：In 99.995% 直径2mm （常用规格）
铟丝：In 99.995% 直径2.5mm
铟丝：In 99.995% 直径3mm
铟丝：In 99.995% 直径4mm
铟丝：In 99.995% 直径5mm
用途：广泛用于电子行业，高科技密封材料，以及真空镀膜。
上海虹口铟粉回收之氧化铟锡的缘由与目的
氧化铟锡因具有可见光高穿透率、红外线反射率大及紫外线吸收率强，内含有很高的自由载子浓度，导电性质良好，为一良好之光电薄膜目前氧化铟锡薄膜的制作和被应用在作为透明电极(尤以LCD最为广泛采用)、抗反射层、光电子组件、热反射镜、除霜器、抗静电膜及太阳能收集器等方面已备受研究。
薄膜内应力可能来自薄膜沈积过程产生之缺陷、微结构或薄膜和基材间彼此不尽相同的晶格参数而在界面所造成的应力等因素影响。本实验以反应磁磁溅镀法低温溅镀氧化铟锡薄膜于压克力基材上，藉由控制氧气流量和膜厚，探讨其对附着性质之影响。
上海虹口铟粉回收之中国精铟生产工艺简介：
目前精铟制取主要有两种来源，根据不同的制取来源不同可以分为原生铟和再生铟。原生铟的主要原料为闪锌矿、方铅矿等含铟精矿经冶炼后得到的粗锌、粗铅、炉渣、烟尘、合金、阳极泥、浸出渣、溶液等。再生铟则是从ITO靶材废料以及含铟半导体切磨废料、废弃件、合金加工废料、废催化剂中回收提炼，此外还包括废弃含铟的终端产品中的回收提炼。
目前，世界上精铟生产的主要提取工艺和主流提取工艺技术就是萃取-电解法。其原则工艺流程是：含铟原料→富集→化学溶解→净化→萃取→反萃取→锌（铝）置换→海绵铟→电解精炼→精铟。
上海虹口铟粉回收之氧化铟锡的主要应用
随着显示器件行业的飞速发展，对ITO薄膜的产品性能特性提出了新的要求。同时ITO薄膜制备技术的深入发展，使显示器件的需要变成可能。不同性能的ITO薄膜可以在不同显示器件中的应用。
随着PDA、电子书等触摸式输入电子产品的悄然兴起，相应材料的制成设备也应运而生。由于触摸式产品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必须是在柔性材料（PET）上制成的，薄膜的沉积温度不能太高（小于120℃），同时要求ITO膜层较薄、面电阻高而且均匀，所以对ITO薄膜的沉积工艺提出了严格的要求。
随着有机电致发光显示器（OLED）以及其它显示器件的发展，对ITO薄膜的制成工艺和设备将会有更新、更高的要求，同时也有力的推动了ITO薄膜制成设备的发展。
上海虹口铟粉回收介绍铟合金的种类：
轴承合金，
轴承合金广泛用于航空及汽车工业，主要用于制造高级、高速发动机轴承的轴承合金有银铅铟合金，铅镉铟合金，镉银铜铟，银铊铟合金，铅锡铟合金，铜锡铟合金，铅锡锑砷铟合金。
铁磁合金，
铁磁合金也叫Heusler合金，应用最广的是铜锰铟合金（Cu/Mn/In)。
记忆合金，
还有记忆合金铟铊合金（In/Tl）和铟镉合金（In/Cd），它们属于合金的新生代。
装饰合金，
装饰用合金，有作饰物的金银钯铜合金（Au/Ag/Pd/Cu）中加入铟可提高饰物的硬度、耐久性，增加饰物的色彩，通常使用的Au75/Ag20/In5合金俗称为“绿金”。
其他铟合金，
铟合金还用在牙科和宝石上。其组成通常为：金5～65%/钯2～30%/银10～15%/铜10～15%/铟0.5～5%。
